低温、高速、高稳定性化学镀镍研究进展

• 作者: 安振涛 张勇 谢俊磊 闫军
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀镍 非晶态合金 低温 高速 镀液稳定性 电磁屏蔽
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 81-83
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 5219字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.06.027

摘要

Ni-P非晶态合金镀层作为一种功能镀层,具有优良的电磁屏蔽、静电防护性能以及优良的物理化学性能.以往研究较多的是在酸性镀液中进行的化学镀沉积Ni-P非晶态合金镀层,温度一般较高,使化学镀的应用受到了限制,尤其是对塑料等非金属材料的表面金属化.因此,低温、高速化学镀越来越受到科研工作者的重视.同时,镀液的稳定性是化学镀能否顺利施镀以及降低化学镀成本的重要因素.鉴于此,在对国内外低温、高沉积速度化学镀镍及镀液稳定性方面的研究进行总结的基础上,展望了化学镀镍研究领域的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安振涛		105	390	10.0	13.0
2	闫军		91	632	13.0	18.0
3	张勇		33	167	7.0	10.0
4	谢俊磊		5	58	3.0	5.0