NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的磁导率和巨磁阻抗比的研究

• 作者: 姜宏伟 孙智勇 季勇 王艾玲 董刚 赵志明 郑鹉
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 巨磁阻抗 磁导率 多层膜
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: O484.43
• 字数: 1906字
• 语种: 中文

摘要

用磁控溅射方法制备NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜;理论研究了多层膜巨磁阻抗效应与磁导率的关系;实验研究了NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构的磁导率和巨磁阻抗比.在驱动频率3MHz下△μ′/μ′(%)出现800%的最大值,巨磁阻抗比出现14.4%的最大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵志明	西安理工大学材料学院	22	50	4.0	6.0
2	郑鹉	首都师范大学物理系	55	134	7.0	9.0
3	姜宏伟	首都师范大学物理系	30	107	7.0	9.0
4	王艾玲	首都师范大学物理系	24	64	6.0	7.0
5	季勇	首都师范大学物理系	5	10	1.0	3.0
6	孙智勇	西安工业大学数理系	5	8	1.0	2.0
7	董刚	首都师范大学物理系	1	1	1.0	1.0