包渗法制备硅化物涂层的结构形貌及形成机理

• 作者: 刘会群 易丹青 肖来荣 蔡志刚 许谅亮 黄道远
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 铌合金 包渗 硅化物涂层 反应扩散
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 材料·矿物·冶金·化学
• 页码范围: 48-53
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3811字
• 语种: 中文

摘要

采用包渗法在C-103 铌合金基体上制备MoSi2 涂层,通过X 射线衍射、扫描电镜和能谱分析等手段研究涂层表面、截面形貌以及氧化后涂层结构变化,并分析硅化过程中涂层的形成机理.研究结果表明:包渗法制备硅化物涂层是通过反应扩散形成的,硅化过程服从抛物线规律;该涂层为复合结构:MoSi2 相为主体层;以NbSi2相为主、并含少量Nb5Si3 相的两相为过渡区;Nb5Si3 相为扩散层.在高温氧化环境下,涂层表面生成致密的非晶氧化层,有效地阻止了氧向涂层内扩散.