三种烤瓷基底冠适合性的比较研究

• 作者: 何惠明 刘岚 刘玉红 王忠义
• 来源期刊: 中国美容医学
• 学科: 医学
• 关键词: Captek 烤瓷基底冠 适合性
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 齿科美容
• 页码范围: 711-713
• 页数: 3页
• 分类号: R783
• 字数: 1998字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-6455.2008.05.039

摘要

目的:研究比较Captck、贵金属合金和镍铬合金3种不同烤瓷基底冠适合性,为临床应用提供实验依据.方法:分别制备Captek、贵金属合金、镍铬合金基底冠,用磷酸锌粘固剂将3组试件粘固于代型上,用线切割机将冠及代型沿纵轴抛开,采用扫描电镜测量6个观察点处基底冠组织面与代型之间的间隙大小,其值进行统计学分析,比较3组基底冠不同部位的适合性.结果:Captek的间隙最大值为(98.02±4.10)μm,贵金属合金基底冠的间隙最大值为(102.42±6.51)μm,镍铬合金基底冠的间隙最大值为(135.67±5.30)μm.Captek和贵金属合金基底冠适合性在统计学上无明显性差异(P＞0.05),Captek和贵金属合金基底冠适合性均与镍铬合金基底冠有显著的统计学差异(P＜0.05).结论:Captek和贵金属合金基底冠具有良好的适合性,与上述二者相比,镍铬合金基底冠边缘适合性较差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王忠义	第四军医大学口腔医学院修复科	116	1073	17.0	24.0
2	何惠明	第四军医大学口腔医学院修复科	98	423	11.0	14.0
3	刘玉红	第四军医大学口腔医学院修复科	6	16	3.0	3.0
4	刘岚	陕西武警总队医院口腔科	2	5	1.0	2.0