制备工艺条件对HfO2薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘伟 刘嘉禾 张树玉 王宏斌 苏小平 郝鹏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铪薄膜 电子束蒸发 离子束辅助 反应磁控溅射 光学性能
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 159-163
• 页数: 5页
• 分类号: O484|TB43
• 字数: 3718字
• 语种: 中文

摘要

用电子束蒸发、离子束辅助、反应磁控溅射三种方法在石英衬底上制备了氧化铪薄膜.利用掠角X射线衍射和扫描电镜分析了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的晶体结构和显微结构,用紫外.可见分光光度计、椭偏仪、和纳米硬度计分别测试了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的可见透射光谱、光学常数和硬度.结果表明薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能和硬度等都与制备工艺有着密切的关系,电子束蒸发制备的薄膜为非晶相,而离子束辅助和反应磁控溅射制备的薄膜为多晶相,三种方法制备的氧化铪薄膜都为柱状结构,电子束蒸发和离子束辅助制备的薄膜色散严重,但反应磁控溅射制备的薄膜吸收较大,反应磁控溅射制备薄膜的硬度远大于电子束蒸发和离子束辅助制备薄膜的硬度.并分别用薄膜成核长大热力学原理和薄膜结构区域模型解释了不同工艺条件下氧化铪薄膜晶体结构和显微结构不同的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏小平		2	17	2.0	2.0
2	刘伟		3	23	3.0	3.0
3	张树玉		4	23	3.0	4.0
4	郝鹏		1	12	1.0	1.0
5	王宏斌		1	12	1.0	1.0
6	刘嘉禾		3	18	2.0	3.0