磁控反应溅射AlN薄膜光学性能研究

• 作者: 朱昌 朱春燕
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝薄膜 折射率 透过率 红外光谱 磁控反应溅射法
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 17-18,31
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 1901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.006

摘要

为了制备光学性能良好的AlN薄膜.采用磁控反应溅射法制备了氮化铝(AlN)薄膜,利用椭圆仪、分光光度计、傅立叶变换光谱仪对AlN薄膜进行了相关光学性能的分析.结果表明:在波长为400～1100nm时,AlN薄膜的折射率为2.0～2.4,透过率都在88%以上;在200～300nm远紫外光范围内,薄膜具有强烈的吸收;在红外吸收光谱中,677cm-1处存在1个强烈的吸收峰,说明薄膜中已经形成了AlN.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱昌	西安工业大学光电工程学院	39	245	9.0	13.0
2	朱春燕	西安工业大学光电工程学院	18	60	3.0	7.0