镁合金表面磁控溅射CrAlTiN镀层的制备技术研究

• 作者: 吴文文 李洪涛 蒋百灵 陈迪春
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 磁控溅射 偏压 CrAlTiN镀层
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 8-10
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2882字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.02.003

摘要

使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术,通过改变偏压在镁合金表面制备了CrAlTiN镀层,对镀层厚度、硬度、结合力和耐磨性进行了检测,使用SEM和XRD分析了镀层的形貌和相组成,结果表明:通过改变偏压可以在镁合金表面沉积一层具有一定耐磨性能的CrAlTiN镀层;偏压对镁基CrAlTiN镀层的结合力和耐磨性影响很大,在偏压为35V时具有最好的结合力和耐磨性能,随着偏压的增大,镀层硬度提高,致密性增强,厚度降低;镁基CrAlTiN镀层为柱状晶组织,具有面心立方结构,点阵类型与面心立方CrN相同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	李洪涛	西安理工大学材料科学与工程学院	23	146	8.0	10.0
3	陈迪春	西安理工大学材料科学与工程学院	15	95	5.0	9.0
4	吴文文	西安理工大学材料科学与工程学院	3	18	3.0	3.0