复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究

• 作者: 于大洋 张以忱 杨宏伟 马胜歌
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石膜 多层膜 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 V射线光电子能谱仪
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 111-114
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TB43|TG174.444
• 字数: 2421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2008.02.007

摘要

结合中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺,制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱	东北大学机械工程及自动化学院	153	408	11.0	16.0
2	马胜歌		12	67	6.0	7.0
3	于大洋	东北大学机械工程及自动化学院	4	16	3.0	4.0
4	杨宏伟		1	2	1.0	1.0