硬盘磁头抛光中抛光液流场的研究

• 作者: 申儒林 钟掘
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 磁头 抛光 流场 摩擦
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TH16|TH117.1
• 字数: 2084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2008.03.006

摘要

根据运动学分析,研究了磁头和抛光盘接触面之间速度场的分布;结合流体力学理论,将抛光盘表面的沟槽视为楔形滑块或阶梯轴承,研究了磁头和抛光盘接触面之间抛光液的流动行为.并以织构纹形抛光盘的一种抛光工艺为例,分析了抛光液膜厚度随速度变化而发生的变化.结果表明,磁头和抛光盘的转速比大于或小于1时,接触面之间形成变化的速度场;由于速度的变化,接触面之间局部的抛光液流量也随之变化;相应地,抛光液膜的局部厚度也发生变化,这种变化达到数量级;液膜承担的载荷亦发生变化,形成局部的负压或高压,从而导致磨粒的行为发生变化,影响抛光过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟掘	中南大学机电工程学院	145	2500	26.0	41.0
2	申儒林	中南大学机电工程学院	26	101	6.0	8.0