羟基磷灰石表面光引发甲基丙烯酸聚合有机化改性的研究

• 作者: 程德军 郭明秀 陈晓峰 高峻 黄斌
• 来源期刊: 塑料工业
• 学科: 工学
• 关键词: 羟基磷灰石 甲基丙烯酸 表面有机化改性 光引发
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 合成工艺与工程
• 页码范围: 14-16,24
• 页数: 4页
• 分类号: TQ316.31
• 字数: 2522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-5770.2008.01.005

摘要

利用羟基磷灰石(HA)表面的羟基与甲基丙烯酸发生酯化反应,在HA表面化学键合地引入了可进一步发生聚合反应的活性双键,然后在紫外光引发作用下与甲基丙烯酸发生自由基聚合.研究了经表面有机化改性HA与聚乙烯醇共混材料的力学性能和断面结构.结果表明,光引发方法成功地在HA表面引入了聚甲基丙烯酸接枝聚合物,实现了HA粒子的表面有机化改性.与纯HA相比,表面有机化改性的HA能够有效的改善聚乙烯醇的力学性能并且在聚乙烯醇基体中分散均匀,团聚程度减小,与基体界面相互作用增加,相容性能得到显著改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高峻	四川大学化学工程学院	24	184	7.0	12.0
2	程德军	四川理工学院材料与化学工程系	30	50	4.0	5.0
3	黄斌	四川理工学院材料与化学工程系	43	113	6.0	8.0
4	陈晓峰	四川理工学院材料与化学工程系	7	37	3.0	6.0
5	郭明秀	四川理工学院材料与化学工程系	6	20	3.0	4.0