气相扩渗法制备K0.75Nd0.042WO3钨青铜及电性能研究

• 作者: 刘志明 方桂珍 李昕 郭元茹
• 来源期刊: 稀土
• 学科: 化学
• 关键词: 化学扩渗 钨青铜 稀土元素 电性能
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 72-76
• 页数: 5页
• 分类号: O614.33
• 字数: 3138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0277.2008.05.018

摘要

通过高温固气反应对α-K10[SiW9Co3(OH2)3O37]进行了NdCl3的化学扩渗,XRD谱图分析表明,扩渗后,原化合物的笼型结构被破坏,生成了四方结构钨青铜化合物.X-射线光电子能谱、X-射线荧光分析和能谱分析表明微量的钕离子可渗入到化合物的体相中参与反应,其中,钕离子和原前驱体化合物中的钾离子成为添隙离子;产物分子式为K0.75Nd0.042WO3.该材料室温下导电率σ为0.34 S*cm-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李昕	哈尔滨工业大学应用化学系	19	100	6.0	9.0
2	方桂珍	东北林业大学材料科学与工程学院	193	2567	25.0	37.0
3	郭元茹	东北林业大学材料科学与工程学院	25	53	4.0	5.0
4	刘志明	东北林业大学材料科学与工程学院	157	764	15.0	18.0