基于复合靶制备Ti-DLC膜的结构和性能

• 作者: 刘衡平 徐均琪 李传志 樊慧庆
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石薄膜 钛掺杂 非平衡磁控溅射 复合靶
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2399字
• 语种: 中文

摘要

利用非平衡磁控溅射技术,以Ti-C复合靶为溅射靶材,在Si基底上制备了钛掺杂的类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的表而形貌、电阻率、硬度、摩擦系数、附着力等性能进行了研究.借助微观结构测试结果,综合分析了薄膜在不同工艺参数下的宏观性能变化.实验表明:随着Ti掺杂含量从4at.%到35at.%,Ti-DLC膜电阻率下降了3个数量级;同时,薄膜的本征硬度从4771 kgf/mm2降低到3037 kgf/mm2,而Ti含量继续增加,硬度值反而会增加;XRD衍射图样表明薄膜的基质呈非晶特征,膜层中有TiC晶相生成;掺杂Ti元素能改善DIE薄膜的附着性能,Ti含量的增加有助于附着力的提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	87	611	13.0	20.0
3	李传志	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	4	9	2.0	3.0
4	樊慧庆	西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室	47	239	10.0	13.0
7	刘衡平	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	3	11	2.0	3.0