移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究

• 作者: 刘慧舟 古宏伟 张华 杨坚
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层导体 连续沉积(隔离层) Y2O3 电子束蒸发 溅射
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 627-630
• 页数: 4页
• 分类号: TM26
• 字数: 1933字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2008.05.017

摘要

采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法.利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析.结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层.研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4～1.0 mm·s-1;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5～2.0mm·s-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坚		34	201	6.0	13.0
2	刘慧舟		24	209	6.0	14.0
3	张华		20	152	5.0	12.0
4	古宏伟		33	206	6.0	13.0