金属管道裂纹尖端磁通量密度的模拟计算

• 作者: 汪青杰 王月华 马振宁 高明
• 来源期刊: 沈阳师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 金属管道 裂纹尖端 电磁理论 磁通量密度 数值模拟
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 421-424
• 页数: 4页
• 分类号: O346.1
• 字数: 1962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5862.2008.04.012

摘要

用数值模拟方法研究了金属管道裂纹尖端磁通量密度的分布情况.给出了电流分布,磁通量密度的分布.模拟结果表明,金属管道裂纹尖端的磁通量密度是最大的,并且磁通量密度的大小随着电流密度的增加而增大.通过具体算例表明,金属管道裂纹尖端的电流密度为1010A/m2数量级时,金属管道裂纹尖端磁通量密度约为0.1wb的数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高明	沈阳师范大学物理科学与技术学院	33	150	8.0	10.0
2	汪青杰	沈阳建筑大学理学院	14	38	5.0	6.0
3	马振宁	沈阳建筑大学理学院	14	31	3.0	5.0
4	王月华	沈阳建筑大学理学院	5	8	2.0	2.0