射频源原子氧暴露对PET薄膜表面性能的影响

• 作者: 张丹 李胜刚 杨士勤 田修波 黄永宪
• 来源期刊: 真空
• 学科: 航空航天
• 关键词: 氧等离子体 PET薄膜 质量损失 表面形貌 接触角
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 8-11
• 页数: 4页
• 分类号: V255.2
• 字数: 1600字
• 语种: 中文

摘要

采用射频源原子氧装置对PET薄膜材料进行不同时间的暴露试验.研究了氧等离子体暴露对PET薄膜的质量损失、表面形貌、接触角的影响,并对暴露前后PET薄膜进行了红外光谱(FTIR)分析.结果表明,温度随暴露时间延长而升高,达到一定值后趋于平缓;随暴露时间延长PET薄膜的质量损失越来越大,表面形貌变得越来越粗糙,接触角先减小后增大.红外光谱分析表明,氧等离子体暴露后PET薄膜表而O-C=O、C-O等含氧基团的数量有所降低.这是由于原子氧暴露诱导的氧化和表面刻蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田修波	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院现代焊接生产技术陶家重点实验室	106	515	11.0	17.0
2	黄永宪	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院现代焊接生产技术陶家重点实验室	29	198	11.0	12.0
3	李胜刚	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院现代焊接生产技术陶家重点实验室	2	8	2.0	2.0