SED的磁控溅射法制作技术试验研究

• 作者: 吴胜利 孙宏博 张劲涛
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 表面传导电子发射显示器 磁控溅射 导电膜
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: TN104.3
• 字数: 1963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2008.02.008

摘要

介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点.SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论.通过参数的优化,得到了稳定、均匀的电子发射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴胜利	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	46	216	9.0	12.0
2	张劲涛	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	19	54	4.0	6.0
3	孙宏博	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	2	7	2.0	2.0