扫描电子显微镜在栅光刻工艺中的应用

• 作者: 付兴昌 刘福庆 张绵 李保第
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 扫描电子显微镜 栅光刻 二次电子 背散射电子 荷电
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 538-541
• 页数: 4页
• 分类号: TN16|TN305.7
• 字数: 1758字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.09.010

摘要

阐述了扫描电子显微镜在解决栅光刻在线监测中遇到的问题和解决过程.在充分的理论分析基础上,通过大量实验研究,克服了光刻胶在高能电子辐照下变形、变性的问题;削弱了光刻胶样品表面荷电对图像质量的影响;在观测"T"型栅的胶窗口时采用特殊的工作条件获得了三层胶的立体形貌图像,从而能够观察三层胶的内部结构.上述问题的解决和技术的改进实现了栅光刻工艺的在线监测;并为栅光刻工艺的稳定和改进、产品成品率的提高提供了大量数据和图像.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李保第		2	3	1.0	1.0
2	刘福庆		2	3	1.0	1.0
3	付兴昌		4	4	1.0	1.0
4	张绵		2	1	1.0	1.0