磁控溅射对薄膜附着力的影响

• 作者: 余凤斌 陈莹
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 磁控溅射 附着力 综述
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 性能研究
• 页码范围: 41-43,46
• 页数: 4页
• 分类号: TB333|TQ153.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2008.06.011

摘要

磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用.综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素.影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余凤斌		19	153	7.0	11.0
2	陈莹		4	51	3.0	4.0