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GSI加速器超导二极磁体的绝缘结构及其力学分析
GSI加速器超导二极磁体的绝缘结构及其力学分析
作者:
吴维越
王树凯
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
超导磁体
VPI
绝缘层
有限元分析
摘要:
主要介绍超导二级磁体的绝缘结构,绝缘材料的特性,绝缘结构的形成工艺(VPI).用有限元分析软件ANSYS对绝缘结构进行了力学分析.
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文献信息
篇名
GSI加速器超导二极磁体的绝缘结构及其力学分析
来源期刊
低温与超导
学科
工学
关键词
超导磁体
VPI
绝缘层
有限元分析
年,卷(期)
2008,(3)
所属期刊栏目
超导技术
研究方向
页码范围
19-22,32
页数
5页
分类号
TB6
字数
3254字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-7100.2008.03.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吴维越
中科院等离子体物理研究所
5
26
3.0
5.0
2
王树凯
中科院等离子体物理研究所
2
7
2.0
2.0
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引文网络
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节点文献
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VPI
绝缘层
有限元分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
低温与超导
主办单位:
中国电子科技集团公司第十六研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-7100
CN:
34-1059/O4
开本:
16开
出版地:
安徽省合肥市濉溪路439号安徽合肥市1019信箱
邮发代号:
26-40
创刊时间:
1973
语种:
chi
出版文献量(篇)
3386
总下载数(次)
10
总被引数(次)
13833
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