266 nm飞秒激光烧蚀单晶硅的分子动力学模拟

• 作者: 曾新吾 王丽梅
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 飞秒激光 单晶硅 SW势 分子动力学 应力波
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1360-1364
• 页数: 5页
• 分类号: O347|O437
• 字数: 3153字
• 语种: 中文

摘要

基于Stillinger-Weber(SW)势和"x-分区"模型,用分子动力学方法模拟了266 nm飞秒激光烧蚀单晶硅的过程.给出了烧蚀过程的物理图像,烧蚀过程中材料内部缺陷的产生与发展最终导致整层材料被移除.对比研究了烧蚀材料中不同区域粒子的运动轨迹,结果体现了在固、液、气不同状态下粒子的运动特征.模拟了激光诱导应力波的传播,其速度为8.18 km/s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾新吾	国防科学技术大学光电科学与工程学院	22	179	7.0	13.0
2	王丽梅	国防科学技术大学理学院	1	10	1.0	1.0