噻唑类二阶非线性光学活性分子的合成与性能

• 作者: 任君 吴立方 吴颉 方章建 王世敏 许祖勋
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 噻唑 二阶非线性 合成 性能
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 505-509
• 页数: 5页
• 分类号: O621.2
• 字数: 3049字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2008.05.001

摘要

合成了4个以噻唑环为母体、含有Schiff碱结构的新型二阶非线性光学(NLO)活性分子,用红外光谱、紫外光谱、核磁共振光谱和元素分析确定了分子结构,用溶致变色法确定了二阶极化率. 分子中噻唑五元杂环和Schiff碱结构提高了NLO分子的热稳定性和透明性,噻唑的共轭芳香杂环非中心对称结构连接多个供、吸电子基团,提高了分子的二阶非线性系数. 结果表明,这些NLO分子的紫外吸收波长在350～415 nm之间,裂解温度均在300 ℃左右,二阶非线性光学系数β值达到1×10 -30 esu数量级,初步实现了"二阶非线性-透明性-热稳定性"综合性能优化的目标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王世敏		83	860	14.0	26.0
2	方章建		5	33	3.0	5.0
3	许祖勋		38	283	10.0	15.0
4	任君		19	31	3.0	4.0
5	吴颉		2	2	1.0	1.0
6	吴立方		1	2	1.0	1.0