UV/Fenton法对诺氟沙星的降解与矿化

• 作者: 吴健 熊振湖
• 来源期刊: 天津城市建设学院学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 高级氧化反应 UV/Fenton 抗生素 诺氟沙星 光氧化 矿化
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 环境与市政
• 页码范围: 259-262
• 页数: 4页
• 分类号: X703
• 字数: 2935字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6853.2008.04.006

摘要

研究了UV/Fenton反应对氟喹诺酮类抗生素诺氟沙星的降解与矿化过程.内容包括:H2O2,Fe2+的初始浓度、pH值等因素对UV/Fenton反应的影响.结果表明,对于UV/H2O2/Fe2+反应系统的诺氟沙星的降解,其降解速率受反应条件的强烈影响.诺氟沙星初始浓度为25mg/L时,适宜的操作条件是:初始pH值为4,FeSO4浓度为0.72 mmol/L,H2O2浓度为23.50mmol/L.对要求总有机碳(TOC)去除率高的氟喹诺酮类抗生素的处理,UV/Fenton类型反应在技术上是可行的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴健	天津城市建设学院环境与市政工程系	1	13	1.0	1.0
2	熊振湖	天津城市建设学院环境与市政工程系	40	512	12.0	21.0