WSix沉积前清洗中一种失效现象及改进方法

• 作者: 孙震海 郭国超 韩瑞津
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅化钨沉积 磷析出 沉积前清洗
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 245-247,256
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2058字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.03.017

摘要

研究并讨论了在WSix制备的前清洗中,用气态氟化氢(HF)清洗时,多晶硅表面有从其体内析出的含磷物,这种析出物很容易跟气态HF中的微量水汽结合,形成HPO3晶体.这样的晶体在Si片表面不容易被检测到,却可以很大程度地影响芯片的良率.本系统观测了这一现象,解释了这种失效的机制,并且给出这种失效模式的解决方案.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭国超		2	2	1.0	1.0
2	韩瑞津		1	1	1.0	1.0