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截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管
截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管
作者:
刘新宇
徐安怀
程伟
金智
齐鸣
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
lnP
异质结构双极晶体管
平坦化
高频
摘要:
研制成功了一种无微空气桥的亚微米InP基异质结双极晶体管(HBT).发展了小于100nm的发射极侧向腐蚀工艺,实现了亚微米的InP基HBT.发射极宽度的减小有效提高了频率特性,发射极面积为0.8μm×15μm的HBT的电流增益截止频率达到了238GHz.发展了基极-集电极的侧向过腐蚀工艺,有效减小了结面积,提高了最大振荡频率.Kirk电流密度达到了3.1mA/μm2.据我们所知,电流增益截止频率是目前国内三端器件中最高的,Kirk电流密度是国内报道的HBT中最高的.这对于HBT器件在超高速电路中的应用具有十分重要的意义.
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InP
异质结双极晶体管
高电流
高频
fT为13.5?GHz的平面结构SiGe异质结双极晶体管的研制
多晶硅发射极技术
分子束外延SiGe基区
锗硅异质结双极晶体管
异质结界面电荷对突变InP/InGaAs异质结双极晶体管热场发射影响研究*
InP/InGaAs异质结双极晶体管
界面电荷
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热场发射
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相关文献总数
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文献信息
篇名
截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
lnP
异质结构双极晶体管
平坦化
高频
年,卷(期)
2008,(10)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
1898-1901
页数
4页
分类号
TN385
字数
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2008.10.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘新宇
中国科学院微电子研究所
141
717
13.0
18.0
2
齐鸣
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
34
145
8.0
9.0
3
徐安怀
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
20
94
7.0
8.0
4
程伟
中国科学院微电子研究所
28
428
9.0
20.0
5
金智
中国科学院微电子研究所
30
92
5.0
8.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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共引文献
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节点文献
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同被引文献
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二级参考文献(1)
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1998(2)
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2000(1)
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2008(1)
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研究主题发展历程
节点文献
lnP
异质结构双极晶体管
平坦化
高频
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
期刊文献
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