磁控溅射法制备PVD薄膜晶格结构分析

• 作者: 李国新 王广海 阿苏娜
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射峰 薄膜 磁控溅射 晶体结构
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 215-216
• 页数: 2页
• 分类号: TB383

摘要

对物理气相沉积（PVD）薄膜材料和固体金属材料进行了XRD扫描分析。结果表明，PVD薄膜晶体与固体金属晶体未出现明显变化，但衍射峰呈现宽化。由于磁控溅射技术制备出的PVD薄膜晶粒是堆层沉积，致使PVD薄膜出现晶格不完整性，即存在各种晶格缺陷和晶格畸变。PVD薄膜晶格缺陷是导致薄膜材料电性能变化的主要原因。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国新	北京理工大学宇航科学技术学院	29	198	6.0	13.0
2	王广海	北京理工大学宇航科学技术学院	8	31	3.0	5.0
3	阿苏娜	北京理工大学宇航科学技术学院	5	52	2.0	5.0