TiAl合金表面等离子渗铬工艺

• 作者: 王小峰 王振霞 范莹 贺志勇
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: TiAl合金 双层辉光 渗铬
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 57-60,70
• 页数: 5页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 2669字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2008.02.001

摘要

用双层辉光离子渗金属技术,在TiAl合金表面渗入铬元素,形成合金层.研究了温度、气压、源极电压、阴极电压等工艺参数对渗层成分、厚度及显微组织的影响.结果表明,在源极电压700 V、阴极电压450～280 V、极间距18 mm、试样温度1 050 ℃、工作气压25 Pa和保温时间4 h的工艺参数条件下,渗铬层厚度可达60 μm,渗层成分呈梯度分布,表面硬度明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺志勇	太原理工大学表面工程研究所	72	696	15.0	23.0
2	王振霞	太原理工大学表面工程研究所	34	146	7.0	10.0
3	范莹	太原理工大学表面工程研究所	2	5	2.0	2.0
4	王小峰	太原理工大学表面工程研究所	2	5	2.0	2.0