碳纳米尖端形成的理论分析

• 作者: 党纯 王廷志
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学气相沉积 等离子体 溅射 离子轰击
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1|O539
• 字数: 3715字
• 语种: 中文

摘要

用CH4,H2和NH3为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳纳米尖端.用原子力显微镜和微区Raman光谱仪对碳膜进行了表征,结果表明,碳膜是粗糙不平的非晶碳膜.用扫描电子显微镜研究了不同条件下生长的碳纳米尖端,结果表明,碳纳米尖端的形成与离子的轰击有关.根据实验结果,利用离子沉积和溅射等有关的理论建立了碳纳米尖端形成的三维理论模型,并利用该模型对实验结果进行了解释,它将对控制碳纳米尖端的生长和应用研究有很大的意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王廷志	江南大学理学院	22	28	2.0	4.0
2	党纯	淮阴工学院计算科学系	12	10	1.0	2.0