高反射率193nm反射膜的实现

• 作者: 尚淑珍 范正修 赵祖欣 邵建达
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 193nm 反射膜 反射率 光学稳定性
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 19-21,29
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3349字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2008.01.006

摘要

对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	尚淑珍	华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室	19	135	8.0	11.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	赵祖欣	华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室	20	136	6.0	11.0