计算机硬盘微晶玻璃基板抛光研究

• 作者: 刘学璋 王柏春 翟海军 许向阳 谢圣中
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硬盘微晶玻璃基板 化学机械抛光 纳米金刚石 亚纳米级光滑表面
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 28-32
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2696字
• 语种: 中文

摘要

计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续,显微硬度非常高(900 kg/mm2～1 000 kg/mm2),难以获得亚纳米级光滑表面.讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响.结果表明,硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量;化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除,该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光.工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大,抛光中需要维持合适的压力.选取合适的抛光条件,最终获得了粗糙度为0.208 nm(AFM:5 μm×5 μm)的光滑表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王柏春		20	294	10.0	17.0
2	许向阳		22	378	13.0	19.0
3	刘学璋		7	48	4.0	6.0
4	谢圣中		11	125	6.0	11.0
5	翟海军		9	124	5.0	9.0