不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究

• 作者: 宋仁国 程成 薛催岭
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) 锗 纳米薄膜 环境压强
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: "2008第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会"论文专辑
• 页码范围: 268-271
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.068

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律.结果表明:所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态;随着环境压强的增大,薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构;膜厚随着环境压强的增大而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋仁国	浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室	47	682	14.0	25.0
2	程成	浙江工业大学应用物理系	54	196	6.0	13.0
3	薛催岭	浙江工业大学应用物理系	2	4	1.0	2.0