C对Gd5SiGe3磁致冷材料组织结构和磁相变的影响

• 作者: 唐永柏 张铁邦 杜会军 陈云贵
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁相变 居里温度 组织结构 磁致冷材料
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 页码范围: 912-914
• 页数: 3页
• 分类号: TB64
• 字数: 2566字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.06.011

摘要

主要研究C对Gd5SiGe3磁致冷合金组织结构与居里温度的影响.使用商业蒸馏Gd为原料,采用非自耗电弧炉熔炼了Gd5SiGe3Cx(x=0、0.1、0.3、1.0)系列合金.粉末XRD结果表明,少量C(x=0.1、0.3)加入合金后,样品主相具有单斜的Gd5Si2Ge2型结构,当x=1.0时,合金中出现了CSi相和GdGe相.采用光学显微镜观察了了合金纵截面的微观形貌,纵截面的柱状晶和晶粒内的线条组织是Gd5SiGe3Cx合金显微组织的两大显著特征.用样品振动磁强计测定了样品在低场下(7960A/m)的M-T曲线,结果表明,Gd5SiGe3Cx系列合金的居里温度随C含量的增加而逐渐降低,x=1.0时居里温度达到最低值108K.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈云贵	四川大学材料科学与工程学院	213	1410	18.0	30.0
2	唐永柏	四川大学材料科学与工程学院	70	586	13.0	22.0
3	张铁邦	四川大学材料科学与工程学院	16	67	4.0	7.0
4	杜会军	四川大学材料科学与工程学院	3	2	1.0	1.0