ZnO薄膜制备工艺的研究进展

• 作者: 赵汝明 马越雷
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子技术 ZnO薄膜 综述 制备工艺 表面形貌 微观结构
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4584字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2008.08.003

摘要

从ZnO晶体结构入手,介绍了ZnO薄膜制备工艺的研究现状与进展,包括基片的选择,缓冲层的影响,薄膜极性的控制与制备技术.并指出基片的选择、薄膜的成核生长过程与界面问题仍是今后研究的重点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马越雷		2	7	2.0	2.0
2	赵汝明		1	5	1.0	1.0