2英寸双面TI2212高温超导薄膜的制备与研究

• 作者: 徐小平 林德华 潘军 田海燕 郑东宁 阳运国 陈莺飞
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TI2212薄膜 PLD FWHM
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: O51
• 字数: 2046字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2008.01.014

摘要

在c取向的LAO基片上,采用两步法制备TI2212高温超导薄膜.首先,利用PLD在基片上沉积无Tl前驱膜,然后前驱膜在流动Ar气氛中利用坩埚技术在720～740℃温度下用Tl2223铊源外延生长成2英寸双面TI2212高温超导薄膜.实验结果表明:2英寸双面TI2212薄膜具有良好的c轴取向,并有明显的层状生长结构,有少量杂相晶粒但无裂纹;两面薄膜表面均匀光亮且呈深褐色.用四引线法测量的最佳双面薄膜的超导零电阻温度分别为106.2K和108.5K;在77K温度下,超导临界电流扫描测量仪得到优质薄膜的临界电流密度在1.0×106 A/cm2到4.8×106 A/cm2范围内;薄膜的微波表面电阻由一个介质谐振器在77K温度和10GHz频率下测量薄膜中心部分的Q值得到,其值小于0.5mΩ.