ZnO薄膜的椭偏和DLTS特性

• 作者: 傅竹西 刘磁辉 张伟英 田珂 苏剑锋
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 热退火 深能级 光电特性
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 495-498
• 页数: 4页
• 分类号: O471.5
• 字数: 2911字
• 语种: 中文

摘要

用射频磁控溅射在硅衬底上淀积氧化锌薄膜,并对样品分别作氮气、空气、氧气等不同条件下退火处理.为研究退火气氛对ZnO/Si薄膜中缺陷以及折射率的影响,由深能级瞬态谱(DLTS)以及椭偏测量方法进行了检测.椭偏测量结果表明相对原始生长的样品,在氮气和空气退火使ZnO薄膜折射率下降,但氧气中退火使折射率升高.我们对折射率的这种变化机理进行了解释.DLTS测量得到一个与Zn**i相关的深能级中心E1存在,氧气气氛退火可以消除E1能级.在氮气退火情况下Zn**i的存在对抑制VO引起的薄膜折射率下降有利.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅竹西	中国科学技术大学物理系	53	808	17.0	27.0
2	刘磁辉	中国科学技术大学物理系	13	183	6.0	13.0
3	张伟英	中国科学技术大学物理系	5	29	3.0	5.0
4	苏剑锋	中国科学技术大学物理系	1	5	1.0	1.0
5	田珂	中国科学技术大学物理系	2	16	2.0	2.0