热退火对SiO2:Er薄膜发光特性的影响

• 作者: 刘玉学 刘益春 屠炜巍 徐长山 慕日祥 邵长路
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiO2 缺陷 PL光谱 能量传递
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 第八届全国发光学学术会议研究论文
• 页码范围: 97-101
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 2726字
• 语种: 中文

摘要

利用离子注入法制备SiO2:Er样品,并在不同温度下进行退火处理.通过微区拉曼光谱、吸收光谱、X射线光电子能谱等手段对其进行结构表征,并进行了室温和变温的光致发光特性研究,得到了可见区和红外区的光致发光.其中,4S3/2→4I15/2的发光强度随温度的升高,先增强后减弱,呈现出反常的温度淬灭效应,此现象是由Er3+ 与SiO2的缺陷之间的能量传递造成的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘益春	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	50	292	10.0	15.0
2	邵长路	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	23	271	10.0	16.0
3	徐长山	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	20	23	2.0	4.0
4	刘玉学	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	15	21	3.0	4.0
5	屠炜巍	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	1	1	1.0	1.0
6	慕日祥	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	1	1	1.0	1.0