ZnO薄膜的制备方法、性质和应用

• 作者: 张建民 杨斐 王光伟 郑宏兴
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 制备工艺 光电特性 光电器件
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 54-61
• 页数: 8页
• 分类号: TN304.055|TN304.2+1|TN304.2+5
• 字数: 7427字
• 语种: 中文

摘要

介绍了宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺、主要性质和器件应用等几方面内容.ZnO薄膜的制备方法大致分为物理法和化学法.前者主要包括溅射、脉冲激光沉积和分子束外延等;后者则涵盖化学气相沉积、喷雾热解和溶胶-凝胶法等.从晶体结构、光学及电学等角度概述了ZnO薄膜的主要性质.与这些性质相联系的器件应用有太阳能电池、发光器件和紫外探测器等.对器件应用领域中存在的一些问题及其解决思路作了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王光伟	天漳工程师范大学电子工程系	1	25	1.0	1.0
2	张建民	天漳工程师范大学电子工程系	1	25	1.0	1.0
3	郑宏兴	天漳工程师范大学电子工程系	1	25	1.0	1.0
4	杨斐	天漳工程师范大学电子工程系	1	25	1.0	1.0