纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究

• 作者: 吕蓬 王启明 申继伟 郭亨群
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: nc-Si/SiNx薄膜 射频磁控反应溅射 光学非线性 量子限域效应 Z扫描
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3177字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.01.014

摘要

采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(nc-Si/SiNx)复合薄膜.通过X射线能谱(EDS)、红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)及紫外-可见吸收光谱(UV-vis)的测定,对薄膜进行了组分、键合状态、结构及光学带隙的表征.采用皮秒激光运用单光束Z扫描技术开展了对该复合薄膜的非线性光学性质的研究,测得其三阶非线性折射率系数和非线性光吸收系数分别为10-8esu和10-8m/W量级,并将薄膜这种三阶光学非线性增强的原因归因于量子限域效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王启明	中国科学院半导体研究所	118	735	14.0	20.0
2	郭亨群	华侨大学信息科学与工程学院	40	180	8.0	11.0
3	申继伟	华侨大学信息科学与工程学院	5	23	4.0	4.0
4	吕蓬	华侨大学信息科学与工程学院	7	29	4.0	5.0