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RHEED优化MBE生长中波MCT薄膜工艺
RHEED优化MBE生长中波MCT薄膜工艺
作者:
曲海成
李艳辉
杨春章
王善力
苏栓
谭英
高丽华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
分子束外延
HgCdTe
反射式高能电子衍射仪
脱氧
温度
摘要:
在分子束外延(MBE)中波HgCdTe薄膜过程中,利用反射式高能电子衍射(RHEED)对衬底表面脱氧和生长过程中生长参数对材料特性的影响进行研究.通过观察RHEED图样的变化,确定了衬底的脱氧状况,获得了生长中衬底温度等生长参数变化引起材料结晶的变化规律,为MBE生长HgCdTe薄膜实验的可控生长提供有效帮助;生长结束后,通过SEM、Hall等手段对HgCdTe的表面缺陷、电学参数等性能进行了初步研究,证明实验说成长的材料基本满足器件制备的要求.
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相关文献总数
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文献信息
篇名
RHEED优化MBE生长中波MCT薄膜工艺
来源期刊
红外技术
学科
工学
关键词
分子束外延
HgCdTe
反射式高能电子衍射仪
脱氧
温度
年,卷(期)
2008,(12)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
688-692
页数
5页
分类号
TN213
字数
4041字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-8891.2008.12.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李艳辉
14
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3.0
4.0
2
杨春章
8
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3.0
3
苏栓
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4
谭英
5
9
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高丽华
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研究主题发展历程
节点文献
分子束外延
HgCdTe
反射式高能电子衍射仪
脱氧
温度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
主办单位:
昆明物理研究所
中国兵工学会夜视技术专业委员会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-8891
CN:
53-1053/TN
开本:
大16开
出版地:
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
邮发代号:
64-26
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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