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摘要:
为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了具体的噪声抑制技术解决方法.进而可使整机系统的技术指标得到很好的提高和改进.这项研究对今后该项目的研制有一定的参考意义.
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文献信息
篇名 高速偏放系统噪声抑制技术的研究
来源期刊 微细加工技术 学科 工学
关键词 电子束曝光机 偏放系统 噪声抑制 光纤传输
年,卷(期) 2008,(2) 所属期刊栏目 电子束技术
研究方向 页码范围 5-7
页数 3页 分类号 TN305.7
字数 2538字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张玉林 18 76 5.0 8.0
2 姚作宾 1 0 0.0 0.0
3 魏守水 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (0)
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参考文献  (1)
节点文献
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同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1996(1)
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2008(0)
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研究主题发展历程
节点文献
电子束曝光机
偏放系统
噪声抑制
光纤传输
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微细加工技术
双月刊
1003-8213
43-1140/TN
大16开
湖南省长沙市
1983
chi
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
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