磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析

• 作者: 严少平 张永宏 苏阳 蒋百灵
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 类石墨碳镀层 微结构 Raman光谱 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 8-12
• 页数: 5页
• 分类号: O484.5|TH117.3
• 字数: 3494字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2008.01.002

摘要

利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X 射线光电子能谱 (XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究.结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似,类石墨碳镀层是以sp2键结构为主,且含有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层,sp3键含量在12～15%范围;根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1.2 nm以下,并随铬含量增高而减小;镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成,并随铬含量增高,逐步有碳铬化合物形成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	严少平	西安理工大学材料科学与工程学院	21	70	5.0	7.0
4	张永宏	西安理工大学材料科学与工程学院	11	74	5.0	8.0
7	苏阳	西安理工大学材料科学与工程学院	7	40	4.0	6.0