二次烧结温度对牙科纳米氧化锆陶瓷抗弯强度影响的实验研究

• 作者: 孙蕾 张富强 靳喜海 高濂 高益鸣
• 来源期刊: 口腔医学
• 学科: 医学
• 关键词: 陶瓷 氧化锆 抗弯强度
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 基础与临床研究
• 页码范围: 70-71,77
• 页数: 3页
• 分类号: R783.1
• 字数: 1650字
• 语种: 中文

摘要

目的 研究二次烧结温度对纳米氧化锆陶瓷强度的影响.方法 经初步烧结的氧化锆瓷块,在不同温度下进行第二次烧结,检测三点抗弯强度,X线衍射分析晶相,扫描电镜下观察试件的微观结构.结果 当第二次烧结温度为1 325℃时,材料的三点抗弯强度最高,达到(932±63)MPa.陶瓷主晶相为四方相,晶体大小均匀,排列紧密.结论 经二次烧结的氧化锆瓷块具有足够的抗弯强度,能够满足口腔全瓷修复材料的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高濂	中国科学院上海硅酸盐研究所	165	5315	44.0	64.0
2	张富强	上海交通大学附属第九人民医院口腔修复科	55	431	12.0	18.0
3	靳喜海	中国科学院上海硅酸盐研究所	17	267	8.0	16.0
4	高益鸣	上海交通大学附属瑞金医院口腔科	33	130	7.0	10.0
5	孙蕾	上海交通大学附属瑞金医院口腔科	14	87	6.0	9.0