对羟基苯乙酮分子印迹聚合物的制备及性能研究

• 作者: 司晓晶 吕敬慈 施雅 雍克岚 霍世欣
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 分子印迹聚合物 对羟基苯乙酮 选择性
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 866-869
• 页数: 4页
• 分类号: O65|O632
• 字数: 2143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2008.08.018

摘要

采用分子印迹技术,以对羟基苯乙酮为模板分子,丙烯酰胺为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,合成了对模板分子对羟基苯乙酮具有良好选择性的印迹聚合物.通过静态平衡结合法以及Scatchard分析法研究了该聚合物的结合能力和选择性能.结果表明,该印迹聚合物平衡离解常数Kd=0.415 mmol/L,最大表观结合量Qmax=144.79 μmol/g.红外光谱研究表明聚合物中存在着与模板分子相互作用的特征基团.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雍克岚	上海大学理学院	33	530	14.0	22.0
2	吕敬慈	上海大学理学院	22	343	11.0	18.0
3	霍世欣	上海大学理学院	4	127	3.0	4.0
4	司晓晶	上海大学生命科学学院	7	127	3.0	7.0
5	施雅	上海大学理学院	4	40	3.0	4.0