OLED中的激光技术

• 作者: 付国柱
• 来源期刊: 光机电信息
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 激光技术与应用
• 页码范围: 22-28
• 页数: 7页
• 分类号: TN3
• 字数: 4988字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1180.2008.11.004

摘要

Sony公司研发了用于有源OLED的μc-Si TFT技术,采用二极管激光热退火(Diodelaser Themlal Anneal,DLTA)方法制备了μc-Si TFT阵列,在大显示面积上获得了均匀而稳定的发光像素驱动电流.另外,Sony公司还研发了激光导致的像素图形升华沉积技术(LaserInduced Pattem-wise Sublimation,LIPS),以玻璃基板为施主衬底,将OLED发光材料精确转移到了显示基板上.采用LIPS技术制作的RGB像素图形具有非常高的精度.基于DLTA和LIPS两项激光技术,Sony公司制作了27.3 in的OLED电视,为OLED电视的批量化生产提供了一个可行的技术方案.