低温多晶硅薄膜的制备工艺研究

• 作者: 杨军 杨定宇 蒋孟衡
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 低温多晶硅薄膜 金属诱导横向晶化 准分子激光晶化 电感耦合等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 3928字
• 语种: 中文

摘要

低温多晶硅薄膜是制备高性能薄膜晶体管的首选材料,由其制成的薄膜晶体管由于在平板显示器件驱动中所展现的优越性能而受到广泛关注.本文系统介绍了低温多晶硅薄膜的三种制备方法一金属诱导横向晶化法、准分子激光晶化法和电感耦合等离子体化学气相沉积法的原理和研究进展,比较了它们之间各自的优缺点,最后对该领域的发展前景进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨定宇	成都信息工程学院光电技术系	39	148	6.0	9.0
2	蒋孟衡	成都信息工程学院光电技术系	23	149	8.0	11.0
3	杨军	成都信息工程学院光电技术系	15	56	5.0	7.0