脉冲喷射电沉积纳米晶镍镀层的工艺优化

• 作者: 戴翠英 毛卫国 潘勇
• 来源期刊: 湘潭大学自然科学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲喷射电沉积 镍镀层 正交方法 晶粒尺寸 显微硬度
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 物理与力学
• 页码范围: 48-54
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.441
• 字数: 4159字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5900.2008.04.009

摘要

为了在硫酸盐体系中得到工艺稳定、光亮、硬度高的纳米晶镍镀层,进行了4因素(电流密度、喷速、脉冲频率和占空比)3水平正交试验.优选出制备微观结构镀层的最佳的工艺条件是:喷速1 000 L/h,电流密度20.4 A/dm2,占空比40%,脉冲频率1 000 Hz;制备硬度镀层的最佳的工艺条件是:电流密度15.3 A/dm2,占空比40%,喷速1 400 L/h,脉冲频率1 000 Hz.分析了各因素对镀层晶粒尺寸和硬度的影响.结果表明,电流密度对镀层质量影响较大,而选择合适的喷速使镀层具有优异的硬度和比较小的晶粒尺寸.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘勇	湘潭大学材料与光电物理学院	37	147	6.0	10.0
5	毛卫国	湘潭大学材料与光电物理学院	20	215	7.0	14.0
9	戴翠英	湘潭大学材料与光电物理学院	7	47	4.0	6.0