AlN/SiO2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性

• 作者: 吴莹 孔明 李戈扬 赵文济 黄碧龙
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: AlN/SiO2纳米多层膜 外延生长 超硬效应 抗氧化性
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 562-566
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 4901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.029

摘要

采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO2层厚的AlN/SiO2纳米多层膜,利用X射线衍射仪,高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO2层厚的变化,考察了AIN/SiO2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AIN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应. SiO2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AIN/SiO2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当. SiO2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔明	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	194	8.0	13.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	吴莹	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	21	82	5.0	8.0
4	赵文济	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	86	6.0	9.0
5	黄碧龙	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	4	17	3.0	4.0