Al(OH)3改性纳米SiO2表面的研究

• 作者: 刘少兵 张颖 程绍娟 赵彦生
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 表面改性 表面包覆 相容性 非均匀成核法
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 23-25
• 页数: 3页
• 分类号: TQ423.12
• 字数: 2062字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.04.009

摘要

纳米SiO2是一种应用广泛、性能优异的无机材料.为了降低纳米二氧化硅的亲水性,提高亲油性,增强其与有机基体的相容性,从而充分发挥纳米SiO2的纳米效应,需要对纳米SiO2的表面进行改性.通过非均匀成核法,采用Al(OH)3对纳米SiO2表面包覆改性以改善纳米SiO2的表面结构和性能.使用IR、XPS、XRD和Malvern Zetasize 3000HSA自动电位粒度仪等表征手段,对表面包覆改性后纳米SiO2的结构及等电点等进行了测试和分析.结果分析表明:Al(OH)3 以无定形结构成功地包覆在纳米SiO2表面,包覆后的纳米SiO2仍为无定形结构,但其等电点(IPE)的pH值从2.3变为7.1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵彦生	太原理工大学化学系	75	618	14.0	20.0
2	刘少兵	洛阳理工学院材料工程系	20	80	6.0	8.0
3	张颖		6	21	2.0	4.0
4	程绍娟	洛阳理工学院材料工程系	16	99	5.0	9.0