氧分压对锰掺杂氧化锌结构及吸收性能的影响

• 作者: 张丽 杨兵初 颜建堂 马学龙
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 锰掺杂氧化锌薄膜 磁控溅射 氧分压 吸收特性
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(新型半导体材料)
• 页码范围: 113-116
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|O484.5
• 字数: 2101字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.02.006

摘要

采用直流磁控溅射的方法,在玻璃衬底上沉积了Zn0.93Mn0.07O薄膜,研究了氧分压对薄膜结构及吸收性能的影响.X射线光电子能谱(XPS)测试结果表明,Mn2+取代了ZnO中的大部分Zn2+,但还掺杂有少量的MnO2分子.X射线衍射测试(XRD)结果显示,Zn0.93Mn0.07O薄膜都具有高度的C轴择优取向,在氧分压为0.4时,薄膜具有最小的半高宽及最大的晶粒尺寸.由于伯斯坦-莫斯效应,Zn0.93Mn0.07O薄膜光吸收跃迁过程只能在价带态和费米能级附近及以上的导带空态之间发生,与纯ZnO薄膜吸收谱线相比,吸收边产生了蓝移,同时还伴随有导带尾跃迁的发生.研究表明,这是由3d5多重能级的d-d跃迁而引起的.经过计算,氧分压为0.4时,Zn0.93Mn0.07O薄膜的禁带宽度是最大的,这可能是由交换作用的减弱而引起的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵初	中南大学物理科学与技术学院	65	347	10.0	13.0
2	张丽	中南大学物理科学与技术学院	53	381	9.0	17.0
3	马学龙	中南大学物理科学与技术学院	4	24	3.0	4.0
4	颜建堂	中南大学物理科学与技术学院	4	24	3.0	4.0