氮气退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响

• 作者: 向霞 居勇峰 祖小涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 氮掺杂TiO2薄膜 光学带隙 退火
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 143-146
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.4|O433.4
• 字数: 3083字
• 语种: 中文

摘要

提出了一种利用离子注入和后续退火制备氮掺杂TiO2薄膜的方法.首先在室温下向石英玻璃中注入Ti离子,随后在氮气中退火到900 ℃,从而制备了氮掺杂的玻璃基TiO2薄膜.SRIM2006程序模拟和卢瑟福背散射谱(RBS)研究表明注入离子从样品表面开始呈高斯分布,实验结果和模拟结果吻合很好.X射线光电子能谱(XPS)研究结果表明注入态样品中形成了金属Ti和TiO2,900 ℃退火后金属Ti转变成TiO2,同时N原子替代少量的晶格O原子形成了O-Ti-N化合物.紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)结果显示,当退火温度至500 ℃时,在吸收光谱中开始出现TiO2的吸收边,随退火温度升高到900 ℃,由于O-Ti-N化合物形成,TiO2的吸收边从3.98 eV红移到3.30 eV,TiO2吸收边末端延伸到可见光区,在可见光区的吸收强度明显增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	居勇峰	电子科技大学应用物理系	6	21	3.0	4.0
2	祖小涛	电子科技大学应用物理系	111	627	12.0	17.0
3	向霞	电子科技大学应用物理系	27	116	6.0	9.0