痕量铜的CdS/ZnS量子点荧光猝灭测定

• 作者: 冯如朋 吴东平 周磊 张勇
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: CdS/ZnS 量子点 荧光猝灭 铜离子 痕量
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 638-640
• 页数: 3页
• 分类号: O614.121|TG271.5
• 字数: 1863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2008.06.018

摘要

以巯基乙酸为稳定剂直接在水溶液中制备了CdS/ZnS量子点,考察了其荧光性质、稳定性等因素,并以该量子点为探针,建立了荧光猝灭法测定铜离子的分析方法.在最佳实验条件下,体系的相对荧光强度与铜离子的浓度呈线性关系:IF0/IF=1.264 02+0.018 88 ρ,其线性范围为 1.0～10 μg/L,线性回归系数为0.997 0,检出限为0.2 μg/L.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张勇	成都理工大学材料与化学化工学院	50	619	15.0	22.0
2	周磊	成都理工大学材料与化学化工学院	10	50	3.0	7.0
3	吴东平	成都理工大学材料与化学化工学院	3	42	3.0	3.0
4	冯如朋	成都理工大学材料与化学化工学院	1	32	1.0	1.0